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技術文章

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半導體晶圓缺陷檢測：深紫外激光器搭配激光功率計、光束質量分析儀實踐半導體工業技術不斷的進步，芯片制成工藝越來越精細化，同時必然會導致保持良品率的挑戰難度越來越高，而一塊潔凈，均一，完*的晶圓（wafer）是后續所有工藝有效實施的前提。為了保證質量，*理想的狀態是晶圓出廠前每片一檢并分類保證其出廠品質；而在進行精細制程前也每片一檢并分類，用于進一步規避晶圓轉運，存儲等環節不當操作造成的污染。因此帶來了無圖型晶圓)檢測應用的兩個需求要點：第一是最小靈敏度，即設備能夠檢測到晶圓表面缺陷的最小尺度，最好成做到與芯片制程有可比性的小尺度。第二是吞吐量...

2025 9-19
石英晶體微天平技術解析：從基礎原理到工業應用石英晶體微天平（QuartzCrystalMicrobalance，簡稱QCM）是一種基于壓電效應的高靈敏度質量檢測技術，核心通過測量石英晶體振動頻率的變化，精準量化其表面微小質量的吸附、脫附或沉積，檢測精度可達納克級甚至皮克級，相當于能感知“單分子層厚度”的質量變化，廣泛應用于材料科學、生物醫學、環境監測、真空鍍膜等領域。一、核心工作原理：從“壓電效應”到“質量-頻率關聯”QCM的核心是AT切型石英晶體，*常用切型，頻率穩定性高，其工作邏輯基于兩個關鍵物理現象：1.壓電效應...

2025 9-17
全面了解殘余氣體分析儀RGA：功能、應用及選型指南殘余氣體分析儀（簡稱RGA）是一種基于質譜分析技術，用于研究真空中殘余氣體成分和含量的儀器。以下是詳細介紹：工作原理殘余氣體分析儀通常采用四極桿質譜儀的原理，主要由離子源、分析器和檢測器三部分組成。中性氣體粒子在離子源中通過電子撞擊等方式電離成離子，離子經萃取透鏡進入帶有四極電場的分析器，四極場根據離子的質量電荷比進行離子分辨，只有特定質量電荷比的離子才能通過金屬棒系統到達檢測器，檢測器將離子轉化為電信號，從而檢測出真空系統中殘余氣體的成分和含量。主要功能?殘余氣體分析：對真...

2025 9-16
如何避免踩坑？進口高功率激光功率計購買渠道全解析激光功率計是精準測量激光功率/能量的關鍵儀器，核心應用覆蓋五大領域，以保障設備性能、工藝達標與操作安全：一、科研與實驗室用于激光物理、材料科學及生物醫學研究，如測量氦氖激光、飛秒脈沖激光的功率穩定性，監測材料改性、薄膜制備的能量參數，或在光遺傳學實驗中控制微瓦級激光，避免損傷生物樣本，支撐實驗結論準確性。二、工業制造核心服務激光加工質量管控：激光切割/雕刻時校準功率，如1000W光纖切割碳鋼需±5%誤差，防止材料切不透或燒穿；激光焊接，如汽車零部件、鋰電池極耳監...

2025 9-11
超高功率激光切割設備維護：高功率激光功率計與激光能量計的監測實踐新能源產業*廣泛的應用激光焊接、激光切割是使用最多，對激光的指標要求也是多種多樣的，我們之前的一篇文章著重介紹了激光焊接，此篇文章我們接下來會詳細介紹一下激光切割以及其重要參數的檢測方法。原理介紹：激光切割簡單的說就是利用經聚焦后的高功率高密度的激光束照射工件，使被照射處的材料熔化、氣化、或達到燃點，同時與光束同軸的氣流吹掉熔融物質，實現割開工件的一種加工方法。激光切割分為以下幾種方式：1.激光熔化切割在激光熔化切割中，工件被局部熔化后借助氣流把熔化的材料噴射出去。因為材料的...

2025 9-4
X射線晶體光譜儀常見有兩種分類X射線晶體光譜儀（x-rayimagingcrystalspectrometer）常用于高能射線的測量，按照使用晶體分為：平面晶體譜儀和彎晶譜儀。通常情況下，平面晶體譜儀由于器結構簡單，加工難度低而廣泛應用于X射線光譜分析，是一種*簡單的X射線光譜測量儀器。然而平面譜儀不具備聚焦功能，因此收光效率低，譜線強度弱。此外光源尺寸對光譜分辨率的影響明顯，不滿足高光譜分辨的測量需求。彎曲晶體譜儀通過將分光晶體衍射面彎曲成各種曲面而達到強聚焦的目標。球面彎曲晶體，同時具備色散與成像的二...

2025 8-25
深度剖析IPG Photonics工業光纖激光器的核心技術IPGPhotonics是高性能光纖激光器和放大器產品的開發及制造商，產品涉及眾多應用和市場,在美國、德國、俄羅斯和意大利均有制造工廠。低功率、中功率以及高功率激光器和放大器產品被廣泛應用于材料加工、通信、娛樂、醫療、生物技術、科技和先進應用中。主要推薦產品系列如下:1）連續綠光單頻光纖激光器10-100WGLR系列單模單頻綠光輸出，功率10-100W連續可調，0.2%RMS超低光學噪聲與M22）納秒綠光光纖激光器10-100WGLPN系列532nm納秒脈沖激光，10-100...

2025 8-25
輻射亮度計的校準方法與標準化輻射亮度計是獲取光譜輻射亮度、色度、眩光等關鍵參量的核心儀器，其量值準確直接影響平板顯示、照明設計、遙感定標等領域的計量一致性。本文從實驗室基準、現場傳遞、標準化三個層面，系統梳理現行校準方法與標準化體系，供計量、檢測及研發人員參考。一、實驗室基準：絕對定標1.積分球標準光源法依據JJG211-2005《亮度計》檢定規程，將積分球出口作為朗伯體輻射源，出光口中心與被校儀器入口同軸等高，測得的光譜輻射亮度值L?(λ)與溯源至國家基準的標準值L?(λ)比較，按公式ΔL(λ)=[L...

2025 8-20

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